XT-10 tipi küresel alümina

Avantajları

XT‑10 Küresel Alümina, yeni malzeme teknolojisinin araştırılması ve geliştirilmesi yoluyla üstün avantajlara sahip, yükseltilmiş, yüksek performanslı, gelişmiş bir malzemedir. Mükemmel termal iletkenliği, ultra yüksek saflığı ve üstün küreselliği bir araya getirerek elektronik, seramik ve yeni enerji gibi endüstriler için tercih edilen bir seçim haline getiriyor. Elektronik özel malzemelerin imalatında ince parçacıklı fonksiyonel dolgu maddesi görevi görür ve ayrıca özel seramik ürünlerin imalatında takviye katkı maddesi olarak da görev yapabilir. Bu malzeme, termal yönetim, mekanik dayanıklılık ve işlenebilirlik açısından kayda değer iyileştirmeler sağlar ve böylece ürün performansını ve güvenilirliğini artırmada önemli bir değere sahiptir.

Detay Özellikler

XT‑10 Küresel Alümina, ≥%99,6 Al₂O₃ içeriğiyle D50 10±1 μm parçacık boyutuna sahiptir. ≥%93 küreselliğe, ≥3,85 g/cm³ gerçek yoğunluğa ve ≤0,5 m²/g spesifik yüzey alanına sahiptir. Malzemenin SEM görüntülerinde açıkça görülebilen küresel morfolojisi olağanüstü akışkanlık ve paketleme yoğunluğu sağlar. Ayrıca, düşük safsızlık seviyelerine (Fe₂O₃ ≤%0,02, SiO₂ ≤%0,05, Na₂O ≤%0,02) ve ≤%0,08 nem içeriğine sahiptir ve yüksek saflık ve stabiliteyi garanti eder. Metalik olmayan mineral ürünlerin imalatıyla uğraşan kuruluşlar, tutarlı seri üretim için istikrarlı teknik parametrelerden yararlanabilirler. Bu toz sınıfı, laboratuvar numune değerlendirmesini ve büyük ölçekli endüstriyel tedariki destekleyen özel seramik ürünlerinin satışına aittir.

Uygulama Aralığı

Elektronik cihazlardaki termal arayüz malzemeleri, yüksek mukavemetli seramiklere yönelik katkı maddeleri ve yeni enerji pil bileşenlerindeki dolguların yanı sıra diğer yüksek performanslı malzeme sistemleri için idealdir. Ayrıca, çeşitli endüstriyel uygulamalarda ısıl iletkenliği, mekanik özellikleri ve işlenebilirliği artırmak, ileri düzey malzemelere odaklanan üreticilerin ve Ar-Ge kurumlarının taleplerini karşılamak için önemli bir malzeme olarak hizmet vermektedir.